Electron capture kinetics at AlF3/SiO2 interfaces: Fid-Bau Portal

Electron capture kinetics at AlF3/SiO2 interfaces

Thurzo, I. / Kampen, T. U. / Zahn, D. R. / Konig, D.

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Titel:

Electron capture kinetics at AlF3/SiO2 interfaces

Beteiligte:

Thurzo, I. (Autor:in) / Kampen, T. U. (Autor:in) / Zahn, D. R. (Autor:in) / Konig, D. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 212-213 ; 753-759

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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