Chemical and electronic structures of Lu2O3/Si interfacial transition layer: Fid-Bau Portal

Chemical and electronic structures of Lu2O3/Si interfacial transition layer

Nohira, H. / Shiraishi, T. / Nakamura, T. / Takahashi, K. / Takeda, M. / Ohmi, S. / Iwai, H. / Hattori, T.

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Titel:

Chemical and electronic structures of Lu2O3/Si interfacial transition layer

Beteiligte:

Nohira, H. (Autor:in) / Shiraishi, T. (Autor:in) / Nakamura, T. (Autor:in) / Takahashi, K. (Autor:in) / Takeda, M. (Autor:in) / Ohmi, S. (Autor:in) / Iwai, H. (Autor:in) / Hattori, T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 216 ; 234-238

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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