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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Interfacial Reaction-Controlled Deposition and Micropatterning of Oxide Thin Films for Gate Dielectrics

    Beteiligte:

    Koumoto, K. (Autor:in) / Masuda, Y. (Autor:in) / Wang, D. J. (Autor:in) / Uematsu, K. / Yokokawa, H.

    Erschienen in:

    Ceramic Interfaces: Properties and Applications V ; 139-150

    KEY ENGINEERING MATERIALS

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2003

    Format / Umfang:

    12 pages

    ISSN:

    1013-9826

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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