Nanocomposite Ti-Si-N films deposited by reactive unbalanced magnetron sputtering at room temperature: Fid-Bau Portal

Nanocomposite Ti-Si-N films deposited by reactive unbalanced magnetron sputtering at room temperature

Jiang, N. / Shen, Y. G. / Mai, Y. W. / Chan, T. / Tung, S. C.

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Titel:

Nanocomposite Ti-Si-N films deposited by reactive unbalanced magnetron sputtering at room temperature

Beteiligte:

Jiang, N. (Autor:in) / Shen, Y. G. (Autor:in) / Mai, Y. W. (Autor:in) / Chan, T. (Autor:in) / Tung, S. C. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 106 ; 163-171

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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