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    Titel:

    Effect of deposition temperature on the characteristics of hafnium oxide films deposited by metalorganic chemical vapor deposition using amide precursor

    Beteiligte:

    Takahashi, K. (Autor:in) / Funakubo, H. (Autor:in) / Hino, S. (Autor:in) / Nakayama, M. (Autor:in) / Ohashi, N. (Autor:in) / Kiguchi, T. (Autor:in) / Tokumitsu, E. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 19 ; 584-589

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2004

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0884-2914

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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