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Characteristics of titanium dioxide films deposited by metalorganic chemical vapor deposition

Wang, D. / Wang, M. / Xu, X. H. / Hou, Y. / Wang, H. / Han, H.

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Titel:

Characteristics of titanium dioxide films deposited by metalorganic chemical vapor deposition

Beteiligte:

Wang, D. (Autor:in) / Wang, M. (Autor:in) / Xu, X. H. (Autor:in) / Hou, Y. (Autor:in) / Wang, H. (Autor:in) / Han, H. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS ; 21 ; 635-637

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0261-8028

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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