Carbon nanometer films prepared by plasma-based ion implantation on single crystalline Si wafer: Fid-Bau Portal

Carbon nanometer films prepared by plasma-based ion implantation on single crystalline Si wafer

Liao, J. X. / Liu, W. M. / Xu, T. / Xue, Q. J.

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Titel:

Carbon nanometer films prepared by plasma-based ion implantation on single crystalline Si wafer

Beteiligte:

Liao, J. X. (Autor:in) / Liu, W. M. (Autor:in) / Xu, T. (Autor:in) / Xue, Q. J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 226 ; 387-392

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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