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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Characteristics of SnO~2 Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering

    Beteiligte:

    Ryu, H. W. (Autor:in) / Park, Y. J. (Autor:in) / Noh, H. S. (Autor:in) / Park, J. S. (Autor:in) / Kang, S.-G. / Kobayashi, T.

    Erschienen in:

    Designing, Processing and Properties of Advanced Engineering Materials PART 2 ; 993-996

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 449/452

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2004

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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