Structure of Cu-W Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering: Fid-Bau Portal

Structure of Cu-W Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering

Wang, R. / Zhou, L.-p. / Wang, M.-p. / Zhu, J.-j. / Li, D.-y. / Li, S.-l.

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Titel:

Structure of Cu-W Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering

Beteiligte:

Wang, R. (Autor:in) / Zhou, L.-p. (Autor:in) / Wang, M.-p. (Autor:in) / Zhu, J.-j. (Autor:in) / Li, D.-y. (Autor:in) / Li, S.-l. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -HANGZHOU- ; 26 ; 582-584

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

1673-2812

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

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