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    Titel:

    Interfacial reactions between RF sputtered CeO2 film and Si(100) substrate

    Beteiligte:

    Lee, H. Y. (Autor:in) / Lee, Y. C. (Autor:in) / Hong, Y. P. (Autor:in) / Ko, K. H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 228 ; 164-168

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2004

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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