Growth of Polymorphous/Nanocrystalline Silicon Films Deposited by PECVD at 13.56 MHz: Fid-Bau Portal

Growth of Polymorphous/Nanocrystalline Silicon Films Deposited by PECVD at 13.56 MHz

Raniero, L. / Martins, R. / Aguas, H. / Zang, S. / Ferreira, I. / Pereira, L. / Fortunato, E. / Boufendi, L.

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Titel:

Growth of Polymorphous/Nanocrystalline Silicon Films Deposited by PECVD at 13.56 MHz

Beteiligte:

Raniero, L. (Autor:in) / Martins, R. (Autor:in) / Aguas, H. (Autor:in) / Zang, S. (Autor:in) / Ferreira, I. (Autor:in) / Pereira, L. (Autor:in) / Fortunato, E. (Autor:in) / Boufendi, L. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 455/456 ; 532-535

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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