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    Titel:

    Etching of SiC with Fluorine ECR Plasma

    Beteiligte:

    Forster, C. (Autor:in) / Cimalla, V. (Autor:in) / Kosiba, R. (Autor:in) / Ecke, G. (Autor:in) / Weih, P. (Autor:in) / Ambacher, O. (Autor:in) / Pezoldt, J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 457/460 ; 821-824

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2004

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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