Chemical vapor deposition of ruthenium and ruthenium oxide thin films for advanced complementary metal-oxide semiconductor gate electrode applications: Fid-Bau Portal

Chemical vapor deposition of ruthenium and ruthenium oxide thin films for advanced complementary metal-oxide semiconductor gate electrode applications

Papadatos, F. / Consiglio, S. / Skordas, S. / Eisenbraun, E. T. / Kaloyeros, A. E. / Peck, J. / Thompson, D. / Hoover, C.

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Chemical vapor deposition of ruthenium and ruthenium oxide thin films for advanced complementary metal-oxide semiconductor gate electrode applications

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Papadatos, F. (Autor:in) / Consiglio, S. (Autor:in) / Skordas, S. (Autor:in) / Eisenbraun, E. T. (Autor:in) / Kaloyeros, A. E. (Autor:in) / Peck, J. (Autor:in) / Thompson, D. (Autor:in) / Hoover, C. (Autor:in)