Growth of aluminium nitride on porous silica by atomic layer chemical vapour deposition: Fid-Bau Portal

Growth of aluminium nitride on porous silica by atomic layer chemical vapour deposition

Puurunen, R. L. / Root, A. / Sarv, P. / Haukka, S. / Iiskola, E. I. / Lindblad, M. / Krause, A. O.

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Titel:

Growth of aluminium nitride on porous silica by atomic layer chemical vapour deposition

Beteiligte:

Puurunen, R. L. (Autor:in) / Root, A. (Autor:in) / Sarv, P. (Autor:in) / Haukka, S. (Autor:in) / Iiskola, E. I. (Autor:in) / Lindblad, M. (Autor:in) / Krause, A. O. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 165 ; 193-202

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

10 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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