AlN thin films fabricated by ultra-high vacuum electron-beam evaporation with ammonia for silicon-on-insulator application: Fid-Bau Portal

AlN thin films fabricated by ultra-high vacuum electron-beam evaporation with ammonia for silicon-on-insulator application

Zhu, M. / Chen, P. / Fu, R. K. / Liu, W. / Lin, C. / Chu, P. K.

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Titel:

AlN thin films fabricated by ultra-high vacuum electron-beam evaporation with ammonia for silicon-on-insulator application

Beteiligte:

Zhu, M. (Autor:in) / Chen, P. (Autor:in) / Fu, R. K. (Autor:in) / Liu, W. (Autor:in) / Lin, C. (Autor:in) / Chu, P. K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 239 ; 327-334

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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