Damage behavior of 200-nm thin copper films under cyclic loading: Fid-Bau Portal

Damage behavior of 200-nm thin copper films under cyclic loading

Zhang, G. P. / Volkert, C. A. / Schwaiger, R. / Arzt, E. / Kraft, O.

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Titel:

Damage behavior of 200-nm thin copper films under cyclic loading

Beteiligte:

Zhang, G. P. (Autor:in) / Volkert, C. A. (Autor:in) / Schwaiger, R. (Autor:in) / Arzt, E. (Autor:in) / Kraft, O. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 20 ; 201-207

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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