The future of high-K on pure germanium and its importance for Ge CMOS: Fid-Bau Portal

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The future of high-K on pure germanium and its importance for Ge CMOS

Meuris, M. / Delabie, A. / Van Elshocht, S. / Kubicek, S. / Verheyen, P. / De Jaeger, B. / Van Steenbergen, J. / Winderickx, G. / Van Moorhem, E. / Puurunen, R. L.

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Meuris, M. / Delabie, A. / Van Elshocht, S. / Kubicek, S. / Verheyen, P. / De Jaeger, B. / Van Steenbergen, J. / Winderickx, G. / Van Moorhem, E. / Puurunen, R. L.

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Titel:

The future of high-K on pure germanium and its importance for Ge CMOS

Beteiligte:

Meuris, M. (Autor:in) / Delabie, A. (Autor:in) / Van Elshocht, S. (Autor:in) / Kubicek, S. (Autor:in) / Verheyen, P. (Autor:in) / De Jaeger, B. (Autor:in) / Van Steenbergen, J. (Autor:in) / Winderickx, G. (Autor:in) / Van Moorhem, E. (Autor:in) / Puurunen, R. L. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 8 ; 203-207

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Print

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

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