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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Characterization of Aluminum and Titanium Oxides Deposited on 4H-SiC by Atomic Layer Deposition Technique

    Beteiligte:

    Wolborski, M. (Autor:in) / Bakowski, M. (Autor:in) / Pore, V. (Autor:in) / Ritala, M. (Autor:in) / Leskela, M. (Autor:in) / Schoner, A. (Autor:in) / Hallen, A. (Autor:in) / Nipoti, R. / Poggi, A. / Scorzoni, A.

    Erschienen in:

    Silicon Carbide and Related Materials 2004 ; 701-704

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 483/485

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2005

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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