Study of hydrogenated nanoamorphous silicon(na-Si:H) thin film prepared by RF magnetron sputtering for graded optical band gap (Eoptg): Fid-Bau Portal

Study of hydrogenated nanoamorphous silicon(na-Si:H) thin film prepared by RF magnetron sputtering for graded optical band gap (Eoptg)

Yu, H. / Cui, R. / Wang, H. / Yang, H. / Zhao, B. / Zhao, Z. / Tang, D. / Lin, S. / Meng, F.

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Titel:

Study of hydrogenated nanoamorphous silicon(na-Si:H) thin film prepared by RF magnetron sputtering for graded optical band gap (Eoptg)

Beteiligte:

Yu, H. (Autor:in) / Cui, R. (Autor:in) / Wang, H. (Autor:in) / Yang, H. (Autor:in) / Zhao, B. (Autor:in) / Zhao, Z. (Autor:in) / Tang, D. (Autor:in) / Lin, S. (Autor:in) / Meng, F. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 40 ; 1367-1370

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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