XPS analysis of ZnO:Ga films deposited by magnetron sputtering: Substrate bias effect: Fid-Bau Portal

XPS analysis of ZnO:Ga films deposited by magnetron sputtering: Substrate bias effect

Correia, F.C. / Bundaleski, N. / Teodoro, O.M.N.D. / Correia, M.R. / Rebouta, L. / Mendes, A. / Tavares, C.J.

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Titel:

XPS analysis of ZnO:Ga films deposited by magnetron sputtering: Substrate bias effect

Beteiligte:

Correia, F.C. (Autor:in) / Bundaleski, N. (Autor:in) / Teodoro, O.M.N.D. (Autor:in) / Correia, M.R. (Autor:in) / Rebouta, L. (Autor:in) / Mendes, A. (Autor:in) / Tavares, C.J. (Autor:in)

Erschienen in:

Applied surface science ; 458 ; 1043-1049

Erscheinungsdatum:

01.01.2018

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.44

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