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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Effect of Film Thickness on Structural and Electrical Properties of Sputter-Deposited Nickel Oxide Films

    Beteiligte:

    Chen, H.-L. (Autor:in) / Lu, Y.-M. (Autor:in) / Hwang, W.-S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS TRANSACTIONS ; 46 ; 872-879

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2005

    Format / Umfang:

    8 pages

    ISSN:

    1345-9678

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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