Structural, morphological and electrical properties of nickel oxide thin films deposited by reactive sputtering: Fid-Bau Portal

Structural, morphological and electrical properties of nickel oxide thin films deposited by reactive sputtering

Keraudy, J. / García Molleja, J. / Ferrec, A. / Corraze, B. / Richard-Plouet, M. / Goullet, A. / Jouan, P. Y.

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Titel:

Structural, morphological and electrical properties of nickel oxide thin films deposited by reactive sputtering

Beteiligte:

Keraudy, J. (Autor:in) / García Molleja, J. (Autor:in) / Ferrec, A. (Autor:in) / Corraze, B. (Autor:in) / Richard-Plouet, M. (Autor:in) / Goullet, A. (Autor:in) / Jouan, P. Y. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 357 ; 838-844

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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