Preparation of molybdenum-doped indium oxide thin films using reactive direct-current magnetron sputtering: Fid-Bau Portal

Preparation of molybdenum-doped indium oxide thin films using reactive direct-current magnetron sputtering

Li, X. / Miao, W. / Zhang, Q. / Huang, L. / Zhang, Z. / Hua, Z.

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Titel:

Preparation of molybdenum-doped indium oxide thin films using reactive direct-current magnetron sputtering

Beteiligte:

Li, X. (Autor:in) / Miao, W. (Autor:in) / Zhang, Q. (Autor:in) / Huang, L. (Autor:in) / Zhang, Z. (Autor:in) / Hua, Z. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 20 ; 1404-1408

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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