Residual Stress Analysis of Microwave Plasma CVD Diamond Films: Fid-Bau Portal

Residual Stress Analysis of Microwave Plasma CVD Diamond Films

Chen, L. / Mao, W. / Lu, F. / Yang, P.

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Titel:

Residual Stress Analysis of Microwave Plasma CVD Diamond Films

Beteiligte:

Chen, L. (Autor:in) / Mao, W. (Autor:in) / Lu, F. (Autor:in) / Yang, P. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 495/497 ; 1359-1364

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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