Characterization and process effects of HfO2 thin films grown by metal-organic molecular beam epitaxy: Fid-Bau Portal

Characterization and process effects of HfO2 thin films grown by metal-organic molecular beam epitaxy

Kim, M. S. / Ko, Y. D. / Yun, M. / Hong, J. H. / Jeong, M. C. / Myoung, J. M. / Yun, I.

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Titel:

Characterization and process effects of HfO2 thin films grown by metal-organic molecular beam epitaxy

Beteiligte:

Kim, M. S. (Autor:in) / Ko, Y. D. (Autor:in) / Yun, M. (Autor:in) / Hong, J. H. (Autor:in) / Jeong, M. C. (Autor:in) / Myoung, J. M. (Autor:in) / Yun, I. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 123 ; 20-30

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

11 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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