Correlation between grain orientation and carrier concentration of poly-crystalline In2O3 thin film grown by MOCVD: Fid-Bau Portal

Correlation between grain orientation and carrier concentration of poly-crystalline In2O3 thin film grown by MOCVD

Hu, R. / Pei, Y. / Chen, Z. / Yang, J. / Lin, J. / Li, Y. / Liang, J. / Fan, B. / Wang, G.

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Titel:

Correlation between grain orientation and carrier concentration of poly-crystalline In2O3 thin film grown by MOCVD

Beteiligte:

Hu, R. (Autor:in) / Pei, Y. (Autor:in) / Chen, Z. (Autor:in) / Yang, J. (Autor:in) / Lin, J. (Autor:in) / Li, Y. (Autor:in) / Liang, J. (Autor:in) / Fan, B. (Autor:in) / Wang, G. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 50 ; 1058-1064

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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