Ferroelectric properties of YMnO3 films deposited by metalorganic chemical vapor deposition on Pt/Ti/SiO2/Si substrates: Fid-Bau Portal

Ferroelectric properties of YMnO3 films deposited by metalorganic chemical vapor deposition on Pt/Ti/SiO2/Si substrates

Kim, D. / Killingensmith, D. / Dalton, D. / Olariu, V. / Gnadinger, F. / Rahman, M. / Mahmud, A. / Kalkur, T. S.

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Titel:

Ferroelectric properties of YMnO3 films deposited by metalorganic chemical vapor deposition on Pt/Ti/SiO2/Si substrates

Beteiligte:

Kim, D. (Autor:in) / Killingensmith, D. (Autor:in) / Dalton, D. (Autor:in) / Olariu, V. (Autor:in) / Gnadinger, F. (Autor:in) / Rahman, M. (Autor:in) / Mahmud, A. (Autor:in) / Kalkur, T. S. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 60 ; 295-297

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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