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Nanomechanical characteristics of SnO2:F thin films deposited by chemical vapor deposition

Fang, T. H. / Chang, W. J.

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Titel:

Nanomechanical characteristics of SnO2:F thin films deposited by chemical vapor deposition

Beteiligte:

Fang, T. H. (Autor:in) / Chang, W. J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 252 ; 1863-1869

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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