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    Titel:

    X-ray Photoelectron Spectroscopy Studies of Ti~xAl~1~-~xN Thin Films Prepared by RF Reactive Magnetron Sputtering

    Beteiligte:

    Xiong, R. (Autor:in) / Shi, J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY -SHENYANG- ; 21 ; 541-544

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2005

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    1005-0302

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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