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The Characteristic of Abrasive Particle in Chemical - Mechanical Polishing

Tsai, H. J. / Chang, C. C. / Jeng, Y. R. / Chen, S. L.

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Titel:

The Characteristic of Abrasive Particle in Chemical - Mechanical Polishing

Beteiligte:

Tsai, H. J. (Autor:in) / Chang, C. C. (Autor:in) / Jeng, Y. R. (Autor:in) / Chen, S. L. (Autor:in) / Jywe, W. / Chen, C.-L. / Fan, K.-C. / Fung, R. F. / Hanson, S. G. / Hsieh, W.-H.

Erschienen in:

Progress on Advanced Manufacture for Micro/Nano Technology 2005: PART 2 Proceedings of the 2005 International Conference on Advanced Manufacture Taipei, Taiwan, R.O.C. November 28^t^h - December 2^n^d, 2005 ; 805-810

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 505/507

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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