Structural characteristic and thermal stability of nanoporous SiO2 low-k thin films prepared by sol-gel method with catalyst HF: Fid-Bau Portal

Structural characteristic and thermal stability of nanoporous SiO2 low-k thin films prepared by sol-gel method with catalyst HF

He, Z. W. / Liu, X. Q. / Gou, J. / Wang, Y. Y.

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Titel:

Structural characteristic and thermal stability of nanoporous SiO2 low-k thin films prepared by sol-gel method with catalyst HF

Beteiligte:

He, Z. W. (Autor:in) / Liu, X. Q. (Autor:in) / Gou, J. (Autor:in) / Wang, Y. Y. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 128 ; 168-173

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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