Microstructure and Thermal Features of a-Si:H and nc-Si:H Thin Films Produced by Rf Sputtering: Fid-Bau Portal

Microstructure and Thermal Features of a-Si:H and nc-Si:H Thin Films Produced by Rf Sputtering

Thaiyalnayaki, V. / Cerqueira, M. F. / Macedo, F. / Ferreira, J. A.

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Titel:

Microstructure and Thermal Features of a-Si:H and nc-Si:H Thin Films Produced by Rf Sputtering

Beteiligte:

Thaiyalnayaki, V. (Autor:in) / Cerqueira, M. F. (Autor:in) / Macedo, F. (Autor:in) / Ferreira, J. A. (Autor:in) / Vilarinho, P. M.

Erschienen in:

Advanced Materials Forum III PART 1: Proceedings of the III International Materials Symposium Materiais 2005 and XII Encontro da Sociedade Portuguesa de Materiais - SPM Universidade de Aveiro, March 20-23, Aveiro, Portugal, 2005 ; 23-27

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 514/516

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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