Nanostructural and PL Features of nc-Si:H Thin Films Prepared by PECVD Techniques: Fid-Bau Portal

Nanostructural and PL Features of nc-Si:H Thin Films Prepared by PECVD Techniques

Shim, J. H. / Cho, N. H. / Im, S. G.

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Titel:

Nanostructural and PL Features of nc-Si:H Thin Films Prepared by PECVD Techniques

Beteiligte:

Shim, J. H. (Autor:in) / Cho, N. H. (Autor:in) / Im, S. G. (Autor:in) / Kang, S.-G. / Kobayashi, T.

Erschienen in:

Designing, Processing and Properties of Advanced Engineering Materials PART 2 ; 1017-1020

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 449/452

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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