Synchrotron white beam X-ray topography, transmission electron microscopy and high-resolution X-ray diffraction studies of defects and strain relaxation processes in wide band gap semiconductor crystals and thin films: Fid-Bau Portal

Synchrotron white beam X-ray topography, transmission electron microscopy and high-resolution X-ray diffraction studies of defects and strain relaxation processes in wide band gap semiconductor crystals and thin films

Dudley, M. / Bai, J. / Huang, X. / Vetter, W. M. / Dhanaraj, G. / Raghothamachar, B.

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Beteiligte:

Dudley, M. (Autor:in) / Bai, J. (Autor:in) / Huang, X. (Autor:in) / Vetter, W. M. (Autor:in) / Dhanaraj, G. (Autor:in) / Raghothamachar, B. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 9 ; 315-322

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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