DNA as an Electron-Beam-Sensitive Reagent for Nanopatterning: Fid-Bau Portal

DNA as an Electron-Beam-Sensitive Reagent for Nanopatterning

Lin, H. Y. / Tsai, L. C. / Chi, P. Y. / Chen, C. D.

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Titel:

DNA as an Electron-Beam-Sensitive Reagent for Nanopatterning

Beteiligte:

Lin, H. Y. (Autor:in) / Tsai, L. C. (Autor:in) / Chi, P. Y. (Autor:in) / Chen, C. D. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 18 ; 1517-1520

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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