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Process limitations of magnetically enhanced reactive ion etch equipment

Kim, B. / Park, J. Y. / Hong, S. J.

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Titel:

Process limitations of magnetically enhanced reactive ion etch equipment

Beteiligte:

Kim, B. (Autor:in) / Park, J. Y. (Autor:in) / Hong, S. J. (Autor:in)

Erschienen in:

SURFACE ENGINEERING -LONDON- ; 22 ; 263-267

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0267-0844

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.44

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