Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon nitride films from a metal-organic precursor

    Neue Suche nach: Hoffman, D. M.
    Neue Suche nach: Sri Prakash Rangarajan
    Neue Suche nach: Athavale, S. D.
    Neue Suche nach: Deshmukh, S. C.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon nitride films from a metal-organic precursor

    Neue Suche nach: Hoffman, D. M.
    Neue Suche nach: Sri Prakash Rangarajan
    Neue Suche nach: Athavale, S. D.
    Neue Suche nach: Deshmukh, S. C.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon nitride films from a metal-organic precursor

    Neue Suche nach: Hoffman, D. M.
    Neue Suche nach: Sri Prakash Rangarajan
    Neue Suche nach: Athavale, S. D.
    Neue Suche nach: Deshmukh, S. C.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon nitride films from a metal-organic precursor

    Beteiligte:

    Hoffman, D. M. (Autor:in) / Sri Prakash Rangarajan (Autor:in) / Athavale, S. D. (Autor:in) / Deshmukh, S. C. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 9 ; 3019

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1994

    Format / Umfang:

    3019 pages

    ISSN:

    0884-2914

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    The growth of silicon nitride crystalline films using microwave plasma enhanced chemical vapor deposition

    Grannen, K. J. / Xiong, F. / Chang, R. P. H. | British Library Online Contents | 1994

    Critical dimension improvement of plasma enhanced chemical vapor deposition silicon nitride thin films in GaAs devices

    Hallakoun, I. / Toledo, I. / Kaplun, J. et al. | British Library Online Contents | 2003

    The optical properties of silicon-rich silicon nitride prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

    Yoshinaga, Seiya / Ishikawa, Yasuaki / Kawamura, Yusuke et al. | British Library Online Contents | 2019

    A New Precursor for Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Iridium Thin Films

    Xin, Y. / Qiuyu, Z. / Xiaodong, F. | British Library Online Contents | 2006

    Effect of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Parameters on Characteristics of Silicon nitride Film

    Li, X.-b. / Zhang, F.-h. | British Library Online Contents | 2006

    Nach oben