Investigation of structure and properties of N-doped TiO2 thin films grown by APCVD: Fid-Bau Portal

Investigation of structure and properties of N-doped TiO2 thin films grown by APCVD

Guo, Y. / Zhang, X. w. / Han, G. r.

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Titel:

Investigation of structure and properties of N-doped TiO2 thin films grown by APCVD

Beteiligte:

Guo, Y. (Autor:in) / Zhang, X. w. (Autor:in) / Han, G. r. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 135 ; 83-87

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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