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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Influence of nitrogen flow rate on growth of TiAlN films prepared by DC magnetron sputtering

    Beteiligte:

    Irudayaraj, A. A. (Autor:in) / Kuppusami, P. (Autor:in) / Thirumurugesan, R. (Autor:in) / Mohandas, E. (Autor:in) / Kalainathan, S. (Autor:in) / Raghunathan, V. S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    SURFACE ENGINEERING -LONDON- ; 23 ; 7-11

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2007

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0267-0844

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.44

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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