Structure analysis of the system Hafnium/Silicon Formula Not Shown by means of X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray photoelectron diffraction (XPD): Fid-Bau Portal

Structure analysis of the system Hafnium/Silicon Formula Not Shown by means of X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray photoelectron diffraction (XPD)

Fluchter, C. R. / de Siervo, A. / Weier, D. / Schurmann, M. / Berges, U. / Dreiner, S. / Carazzolle, M. F. / Landers, R. / Kleiman, G. G. / Westphal, C.

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Titel:

Structure analysis of the system Hafnium/Silicon Formula Not Shown by means of X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray photoelectron diffraction (XPD)

Beteiligte:

Fluchter, C. R. (Autor:in) / de Siervo, A. (Autor:in) / Weier, D. (Autor:in) / Schurmann, M. (Autor:in) / Berges, U. (Autor:in) / Dreiner, S. (Autor:in) / Carazzolle, M. F. (Autor:in) / Landers, R. (Autor:in) / Kleiman, G. G. (Autor:in) / Westphal, C. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 9 ; 1049-1054

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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