Influence of Ar/O2 ratio on the properties of transparent conductive ZnO:Ga films prepared by DC reactive magnetron sputtering: Fid-Bau Portal

Influence of Ar/O2 ratio on the properties of transparent conductive ZnO:Ga films prepared by DC reactive magnetron sputtering

Ma, Q. B. / Ye, Z. Z. / He, H. P. / Zhu, L. P. / Wang, J. R. / Zhao, B. H.

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Titel:

Influence of Ar/O2 ratio on the properties of transparent conductive ZnO:Ga films prepared by DC reactive magnetron sputtering

Beteiligte:

Ma, Q. B. (Autor:in) / Ye, Z. Z. (Autor:in) / He, H. P. (Autor:in) / Zhu, L. P. (Autor:in) / Wang, J. R. (Autor:in) / Zhao, B. H. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 61 ; 2460-2463

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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