Hf1-xSixOy dielectric films deposited by UV-photo-induced chemical vapour deposition (UV-CVD): Fid-Bau Portal

Hf1-xSixOy dielectric films deposited by UV-photo-induced chemical vapour deposition (UV-CVD)

Liu, M. / Zhu, L. Q. / He, G. / Wang, Z. M. / Wu, J. X. / Zhang, J. Y. / Liaw, I. / Fang, Q. / Boyd, I. W.

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Titel:

Hf1-xSixOy dielectric films deposited by UV-photo-induced chemical vapour deposition (UV-CVD)

Beteiligte:

Liu, M. (Autor:in) / Zhu, L. Q. (Autor:in) / He, G. (Autor:in) / Wang, Z. M. (Autor:in) / Wu, J. X. (Autor:in) / Zhang, J. Y. (Autor:in) / Liaw, I. (Autor:in) / Fang, Q. (Autor:in) / Boyd, I. W. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 7869-7873

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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