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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Influence of N2 flow ratio on the properties of hafnium nitride thin films prepared by DC magnetron sputtering

    Beteiligte:

    Yuan, L. (Autor:in) / Fang, G. (Autor:in) / Li, C. (Autor:in) / Wang, M. (Autor:in) / Liu, N. (Autor:in) / Ai, L. (Autor:in) / Cheng, Y. (Autor:in) / Gao, H. (Autor:in) / Zhao, X. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 8538-8542

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2007

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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