Deposition of aluminum nitride thin film on Si(111) by KrF excimer laser and its characterizations: Fid-Bau Portal

Deposition of aluminum nitride thin film on Si(111) by KrF excimer laser and its characterizations

Shih, M. C. / Liang, C. W. / Chaing, P. J.

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Titel:

Deposition of aluminum nitride thin film on Si(111) by KrF excimer laser and its characterizations

Beteiligte:

Shih, M. C. (Autor:in) / Liang, C. W. (Autor:in) / Chaing, P. J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 254 ; 2211-2215

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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