Chemical vapor deposition of ZrxTi1-xO2 and HfxTi1-xO2 thin films using the composite anhydrous nitrate precursors: Fid-Bau Portal

Chemical vapor deposition of ZrxTi1-xO2 and HfxTi1-xO2 thin films using the composite anhydrous nitrate precursors

Shao, Q. Y. / Li, A. D. / Dong, Y. / Fang, F. / Jiang, J. Q. / Liu, Z. G.

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Titel:

Chemical vapor deposition of ZrxTi1-xO2 and HfxTi1-xO2 thin films using the composite anhydrous nitrate precursors

Beteiligte:

Shao, Q. Y. (Autor:in) / Li, A. D. (Autor:in) / Dong, Y. (Autor:in) / Fang, F. (Autor:in) / Jiang, J. Q. (Autor:in) / Liu, Z. G. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 254 ; 2224-2228

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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