Field electron emission from HfNxOy thin films deposited by direct current sputtering: Fid-Bau Portal

Field electron emission from HfNxOy thin films deposited by direct current sputtering

Cai, X. M. / Ye, F. / Xie, E. Q. / Zhang, D. P. / Fan, P.

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Titel:

Field electron emission from HfNxOy thin films deposited by direct current sputtering

Beteiligte:

Cai, X. M. (Autor:in) / Ye, F. (Autor:in) / Xie, E. Q. (Autor:in) / Zhang, D. P. (Autor:in) / Fan, P. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 254 ; 3074-3077

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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