Hierarchical Self-Assembly of Block Copolymers for Lithography-Free Nanopatterning: Fid-Bau Portal

Hierarchical Self-Assembly of Block Copolymers for Lithography-Free Nanopatterning

Kim, B. H. / Shin, D. O. / Jeong, S. J. / Koo, C. M. / Jeon, S. C. / Hwang, W. J. / Lee, S. / Lee, M. G. / Kim, S. O.

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Titel:

Hierarchical Self-Assembly of Block Copolymers for Lithography-Free Nanopatterning

Beteiligte:

Kim, B. H. (Autor:in) / Shin, D. O. (Autor:in) / Jeong, S. J. (Autor:in) / Koo, C. M. (Autor:in) / Jeon, S. C. (Autor:in) / Hwang, W. J. (Autor:in) / Lee, S. (Autor:in) / Lee, M. G. (Autor:in) / Kim, S. O. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 20 ; 2303-2307

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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