In situ chemical vapour co-deposition of Al and Si to form diffusion coatings on TZM: Fid-Bau Portal

In situ chemical vapour co-deposition of Al and Si to form diffusion coatings on TZM

Majumdar, S. / Sharma, I. G. / Raveendra, S. / Samajdar, I. / Bhargava, P.

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Titel:

In situ chemical vapour co-deposition of Al and Si to form diffusion coatings on TZM

Beteiligte:

Majumdar, S. (Autor:in) / Sharma, I. G. (Autor:in) / Raveendra, S. (Autor:in) / Samajdar, I. (Autor:in) / Bhargava, P. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A ; 492 ; 211-217

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0921-5093

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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