Highly Versatile and Robust Materials for Soft Imprint Lithography Based on Thiol-ene Click Chemistry: Fid-Bau Portal

Highly Versatile and Robust Materials for Soft Imprint Lithography Based on Thiol-ene Click Chemistry

Campos, L. M. / Meinel, I. / Guino, R. G. / Schierhorn, M. / Gupta, N. / Stucky, G. D. / Hawker, C. J.

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Titel:

Highly Versatile and Robust Materials for Soft Imprint Lithography Based on Thiol-ene Click Chemistry

Beteiligte:

Campos, L. M. (Autor:in) / Meinel, I. (Autor:in) / Guino, R. G. (Autor:in) / Schierhorn, M. (Autor:in) / Gupta, N. (Autor:in) / Stucky, G. D. (Autor:in) / Hawker, C. J. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 20 ; 3728-3733

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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