Application of TOF-SIMS for high precision ion implant dosimetry: Possibilities and limitations: Fid-Bau Portal

Application of TOF-SIMS for high precision ion implant dosimetry: Possibilities and limitations

Grehl, T. / Mollers, R. / Niehuis, E. / Rading, D.

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Titel:

Application of TOF-SIMS for high precision ion implant dosimetry: Possibilities and limitations

Beteiligte:

Grehl, T. (Autor:in) / Mollers, R. (Autor:in) / Niehuis, E. (Autor:in) / Rading, D. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 1404-1407

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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